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二氧化硅檢驗(yàn)方法--揮散法

二氧化硅的測(cè)定方法有多種,本篇主要介紹揮散法。

若某個(gè)試樣中二氧化硅的含量在98%以上,應(yīng)用氫氟酸揮發(fā)重量差減法(即揮散法)來(lái)測(cè)定SiO2含量。

具體測(cè)定步驟如下:

將鉑坩堝中測(cè)定過(guò)燒失量的試樣,用少量水潤(rùn)濕,加入4~5滴硫酸及5~7mL氫氟酸,放在電爐上低溫加熱,揮發(fā)至近干時(shí),取下放冷,再加2~3滴硫酸及3~4mL氫氟酸,繼續(xù)加熱揮發(fā)至干,然后升高溫度,至三氧化硫白煙完全逸盡。將鉑坩堝置于高溫爐中,于950℃溫度下灼燒30分鐘,取出放在干燥器中冷至室溫,稱(chēng)重。如此反復(fù)灼燒,直至恒重。

SiO2=×100

G1——測(cè)燒失量時(shí)灼燒后試樣和坩堝的重量,g;

G2——?dú)堅(jiān)哇釄宓闹亓?g;

G——試樣的重量,g;

若試樣中SiO2含量在98%以下,采用上述方法測(cè)定SiO2將引起較大的誤差。這種情況下,宜采用重量法或氟硅酸鉀容量法來(lái)測(cè)定。


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