超細(xì)二氧化硅/納米SiO2的制備方法分為物理法和化學(xué)法兩種。

一、物理法

物理法一般指機(jī)械粉碎法。利用超級(jí)氣流粉碎機(jī)或高能球磨機(jī)將SiO2的聚集體粉碎可獲得粒徑1～5微米的超細(xì)產(chǎn)品。該法工藝簡(jiǎn)單但易帶入雜質(zhì).粉料特性難以控制，制備效率低且粒徑分布較寬。

二、化學(xué)法

化學(xué)法可制得純凈且粒徑分布均勻的超細(xì)SiO2顆粒�；瘜W(xué)法包括化學(xué)氣相沉積(CVD)法、液相法、離子交換法、沉淀法和溶膠凝膠(Sol-Gel)法等，主要的生產(chǎn)方法還是以四氯化硅為原料的氣相法，以硅酸鈉和無(wú)機(jī)酸為原料的沉淀法和以硅酸醋等為原料的溶膠凝膠法。

利用超細(xì)二氧化硅龐大的比表面積、表面多介孔結(jié)構(gòu)和超強(qiáng)的吸附能力以及奇異的理化特性，將銀離子等功能離子均勻地設(shè)計(jì)到納米Si0X表面的介孔中，開(kāi)發(fā)出高效、持久、耐高溫、廣譜抗菌的納米抗菌粉，可廣泛用于票據(jù)、醫(yī)療衛(wèi)生、化學(xué)建材、家電制品、功能纖維、塑料制品等行業(yè)中。